系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
技术指标
型号 |
DZS-500 |
结构形式 |
真空室采用U型箱体前开门，后置抽气系统 |
真空室 |
500x500 x600mm |
真空系统配置 |
复合分子泵、机械泵、闸板阀 |
极限压力 |
≤6.67x10-5Pa (经烘烤除气后) |
恢复真空时间 |
45分钟可达到6.67x10-4Pa |
电子束蒸发源 |
e型电子枪 |
阳极电压：6kv、8kv |
数量(套) |
1 |
坩埚 |
水冷式坩埚，四穴设计，每个容量11ml |
功率 |
0-6KW可调 |
工件架类型及尺寸 |
基片尺寸：可放置4″基片加热最高温度800°C±1°C基片可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调 手动控制样品挡板组件1套 |
气路系统 |
质量流量控制器1路 |
石英晶振膜厚控制仪 |
监测膜厚显示范围：0-99μ9999Å |
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